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【学术预告】碳化硅半导体材料研究进展

发布时间:2025-09-02

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报告时间:2025年9月3日(周三)下午3:30

报告地点:厚德楼二楼报告厅

报告题目:碳化硅半导体材料研究进展

报告人:张福生

专家简介:

张福生,博士,副教授,任职齐鲁工业大学(山东省科学院)。主要从事宽禁带半导体以及超宽禁带(SiC、GaN、AlN等)半导体材料的生长、加工以及缺陷研究工作。具备自主设计和搭建高温PVT法单晶生长炉的能力,并能通过模拟计算内部温场分布和生长流场状态。熟悉多种半导体材料粗加工及微纳加工技术。主持参与项目:国家重点基础研究发展计划(973计划)项目2项,国家高技术研究发展计划(863计划)项目1项,国家自然科学基金项目1项,主持中央引导地方科技发展专项资金项目1项,河北省重点研发项目1项,国家重点实验室计划项目1项。发表SCI和EI学术论文13篇,申请国家发明专利15项,授权12项。获得河北省“三三三人才工程”第三层次人选;获得河北省“科技型中小企业创新英才”称号;获得市“科技进步一等奖”1项;获得市“科技进步二等奖”1项。

主办单位:

山东省硅单晶半导体材料与技术重点实验室

德州学院化学化工学院

德州市工业和信息化局

德州市半导体协会

德州学院科学技术处

作者:化学化工学院 马恩广 供稿审核人:王新芳)

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